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热处理V膜制备VO2薄膜的结构和光电性能

袁文辉 刘保顺

硅酸盐学报2021,Vol.49Issue(6):1151-1156,6.
硅酸盐学报2021,Vol.49Issue(6):1151-1156,6.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.20200608

热处理V膜制备VO2薄膜的结构和光电性能

Structure and Optical–Electric Properties of VO2 Films Prepared by Annealing V Films

袁文辉 1刘保顺2

作者信息

  • 1. 武汉高芯科技有限公司,武汉 430205
  • 2. 硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉理工大学,武汉 430070
  • 折叠

摘要

关键词

二氧化钒薄膜/磁控溅射/真空退火/半导体‒金属相变

分类

物理学

引用本文复制引用

袁文辉,刘保顺..热处理V膜制备VO2薄膜的结构和光电性能[J].硅酸盐学报,2021,49(6):1151-1156,6.

基金项目

国家重点研发计划政府间国际科技创新合作重点专项(2017YFE0192600) (2017YFE0192600)

国家自然科学基金面上项目(51772230). (51772230)

硅酸盐学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0454-5648

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