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电场作用下P掺杂硅烯选择性吸附CH4的第一性原理计算

霍英菲 黄珍霞 王军凯 王雪晴 胡前库 周爱国

原子与分子物理学报2021,Vol.38Issue(4):41-48,8.
原子与分子物理学报2021,Vol.38Issue(4):41-48,8.DOI:10.19855/j.1000-0364.2021.041007

电场作用下P掺杂硅烯选择性吸附CH4的第一性原理计算

First-principles calculation of the selective adsorption of CH4 by P-doped silicene under electric field

霍英菲 1黄珍霞 2王军凯 1王雪晴 1胡前库 1周爱国1

作者信息

  • 1. 河南理工大学材料科学与工程学院,焦作454003
  • 2. 河南理工大学化学化工学院,焦作454003
  • 折叠

摘要

关键词

硅烯/第一性原理计算/CH4吸附/外加电场

分类

化学化工

引用本文复制引用

霍英菲,黄珍霞,王军凯,王雪晴,胡前库,周爱国..电场作用下P掺杂硅烯选择性吸附CH4的第一性原理计算[J].原子与分子物理学报,2021,38(4):41-48,8.

基金项目

国家自然科学基金(51772077) (51772077)

河南理工大学博士基金(B2019-40) (B2019-40)

省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室开放基金(G201904) (G201904)

河南省高校基本科研业务费专项资金(NSFRF200101) (NSFRF200101)

河南省科技攻关计划(212102210589) (212102210589)

原子与分子物理学报

OA北大核心

1000-0364

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