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扫描电子束微熔抛光临界功率密度规律及实验研究

李新凯 王荣 王启超 董玉健

表面技术2021,Vol.50Issue(7):386-393,8.
表面技术2021,Vol.50Issue(7):386-393,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.07.041

扫描电子束微熔抛光临界功率密度规律及实验研究

Research on Critical Power Density and Experiment of Scanning Electron Beam Micro-melting Polishing

李新凯 1王荣 1王启超 1董玉健1

作者信息

  • 1. 桂林电子科技大学,广西 桂林 541004
  • 折叠

摘要

关键词

扫描电子束/抛光/45钢/粗糙度/工艺参数/熔坑

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

李新凯,王荣,王启超,董玉健..扫描电子束微熔抛光临界功率密度规律及实验研究[J].表面技术,2021,50(7):386-393,8.

基金项目

广西高校中青年教师基础能力提升项目(2020KY05026) (2020KY05026)

广西自然科学基金项目(2017GXNSFDA198007,2020JJB160001) (2017GXNSFDA198007,2020JJB160001)

桂林电子科技大学研究生教育创新计划资助项目(2021YCXB02,2021YCXS019) (2021YCXB02,2021YCXS019)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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