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等离子体结合六甲基二硅胺烷处理提升增透膜抗真空污染性能研究

董祥 吕海兵 严鸿维 黎波 向霞 蒋晓东

强激光与粒子束2021,Vol.33Issue(7):43-48,6.
强激光与粒子束2021,Vol.33Issue(7):43-48,6.DOI:10.11884/HPLPB202133.200341

等离子体结合六甲基二硅胺烷处理提升增透膜抗真空污染性能研究

Plasma combined with hexamethyldisilazane treatment to improve anti-vacuum pollution performance of antireflective coatings

董祥 1吕海兵 2严鸿维 2黎波 2向霞 1蒋晓东1

作者信息

  • 1. 电子科技大学 物理学院,成都 610054
  • 2. 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900
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摘要

关键词

SiO2增透膜/等离子体处理/六甲基二硅胺烷/抗真空有机污染

分类

数理科学

引用本文复制引用

董祥,吕海兵,严鸿维,黎波,向霞,蒋晓东..等离子体结合六甲基二硅胺烷处理提升增透膜抗真空污染性能研究[J].强激光与粒子束,2021,33(7):43-48,6.

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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