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喷淋式MOCVD反应器中AlN的生长速率和化学反应路径的数值模拟研究

万旭 左然

人工晶体学报2021,Vol.50Issue(6):1002-1009,8.
人工晶体学报2021,Vol.50Issue(6):1002-1009,8.

喷淋式MOCVD反应器中AlN的生长速率和化学反应路径的数值模拟研究

Numerical Simulation Study on Growth Rate and Gas Reaction Path of AlN-MOCVD with Close-Coupled Showerhead Reactor

万旭 1左然1

作者信息

  • 1. 江苏大学能源与动力工程学院,镇江 212013
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摘要

关键词

MOCVD/AlN/喷淋式反应器/气相反应/数值模拟

分类

数理科学

引用本文复制引用

万旭,左然..喷淋式MOCVD反应器中AlN的生长速率和化学反应路径的数值模拟研究[J].人工晶体学报,2021,50(6):1002-1009,8.

基金项目

国家自然科学基金(61474058) (61474058)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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