硅酸盐通报2021，Vol.40Issue(7)：2396-2400,2436,6.
氮化硅薄膜生长随时间演化过程及其特性研究
Growth Evolution of Silicon Nitride Film over Time and Its Characteristics
摘要
关键词
等离子增强化学气相沉积/氮化硅薄膜/沉积时间/光学带隙/折射率/致密度分类
数理科学引用本文复制引用
孙佳欣,周炳卿..氮化硅薄膜生长随时间演化过程及其特性研究[J].硅酸盐通报,2021,40(7):2396-2400,2436,6.基金项目
国家自然科学基金(51262022) （51262022）
内蒙古师范大学研究生科研创新基金(CXJJS19108) （CXJJS19108）
