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退火气氛对ZnO:Al薄膜光学、电学和微结构的影响

郝常山 彭晶晶 雷沛 钟艳莉 张旋 纪建超 霍钟祺

航空材料学报2021,Vol.41Issue(4):134-140,7.
航空材料学报2021,Vol.41Issue(4):134-140,7.DOI:10.11868/j.issn.1005-5053.2021.000001

退火气氛对ZnO:Al薄膜光学、电学和微结构的影响

Effect of annealing atmosphere on optical, electrical properties and microstructure of ZnO:Al films

郝常山 1彭晶晶 2雷沛 1钟艳莉 2张旋 1纪建超 2霍钟祺1

作者信息

  • 1. 中国航发北京航空材料研究院,北京 100095
  • 2. 北京市先进运载系统结构透明件工程技术研究中心,北京 100095
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO:Al薄膜/退火/载流子浓度/禁带宽度

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

郝常山,彭晶晶,雷沛,钟艳莉,张旋,纪建超,霍钟祺..退火气氛对ZnO:Al薄膜光学、电学和微结构的影响[J].航空材料学报,2021,41(4):134-140,7.

基金项目

国家青年自然科学基金项目(51802297) (51802297)

航空材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1005-5053

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