影像科学与光化学2021，Vol.39Issue(4)：504-511,8.DOI:10.7517/issn.1674-0475.210122
极紫外(EUV)光刻胶树脂及合成方法进展
Development of Photoresist Resins and Their Synthesis Methods for Extreme Ultraviolet Lithography
摘要
关键词
光刻胶树脂/极紫外光刻/合成/改性引用本文复制引用
文帅,刘强..极紫外(EUV)光刻胶树脂及合成方法进展[J].影像科学与光化学,2021,39(4):504-511,8.基金项目
山东省腐蚀科学重点实验室开放课题(KLCS201908)资助 （KLCS201908）
