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钛掺杂氧化镍基电阻存储薄膜的电学性能研究

石芬

合成材料老化与应用2021,Vol.50Issue(4):68-70,3.
合成材料老化与应用2021,Vol.50Issue(4):68-70,3.

钛掺杂氧化镍基电阻存储薄膜的电学性能研究

The Study of Electical Property of Ti-doped NiOx Resistive Memory Thin Films

石芬1

作者信息

  • 1. 西安航空职业技术学院,陕西西安710089
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摘要

关键词

溶胶-凝胶法/钛掺杂氧化镍基薄膜/双极电阻开关性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

石芬..钛掺杂氧化镍基电阻存储薄膜的电学性能研究[J].合成材料老化与应用,2021,50(4):68-70,3.

基金项目

2019年西安航空职业技术学院科研项目(19XHZK-011). (19XHZK-011)

合成材料老化与应用

OACSTPCD

1671-5381

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