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管式PECVD工艺对组件PID的影响研究

李景 王贵梅 王玉肖 刘苗 许志卫

电源技术2021,Vol.45Issue(8):1034-1035,1039,3.
电源技术2021,Vol.45Issue(8):1034-1035,1039,3.DOI:10.3969/j.issn.1002-087X.2021.08.020

管式PECVD工艺对组件PID的影响研究

Research on influence of tubular PECVD process on PID of module

李景 1王贵梅 1王玉肖 1刘苗 1许志卫1

作者信息

  • 1. 晶澳太阳能有限公司,河北邢台055550
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摘要

关键词

多晶硅/管式PECVD/PID/膜厚/折射率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李景,王贵梅,王玉肖,刘苗,许志卫..管式PECVD工艺对组件PID的影响研究[J].电源技术,2021,45(8):1034-1035,1039,3.

电源技术

OA北大核心CSTPCD

1002-087X

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