表面技术2021，Vol.50Issue(9)：370-378,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.09.039
双磨粒抛光单晶Si的分子动力学模拟
Molecular Dynamics Simulation of Double Abrasive Polished Single Crystal Si
摘要
关键词
单晶Si/双磨粒/三体磨粒抛光/去除机理/分子动力学分类
矿业与冶金引用本文复制引用
岳海霞,戴厚富,胡洋,周玉琪..双磨粒抛光单晶Si的分子动力学模拟[J].表面技术,2021,50(9):370-378,9.基金项目
贵州省研究生科研基金立项课题(黔教合YJSCXJH[2020]052) （黔教合YJSCXJH[2020]052）
贵州省科学技术基金一般项目(JC[2020]1Y227) （JC[2020]1Y227）
教育部重点实验室开放基金(KY[2019]042) （KY[2019]042）
中国博士后科学基金(2019M662765) （2019M662765）
国家自然科学基金面上项目(51675172) （51675172）
