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基于晶圆键合工艺的光刻掩膜版排版方法

尹卓 苏悦阳 罗代艳 马莹 王刚 朱娜 刘力锋 吴汉明 张兴

北京大学学报(自然科学版)2021,Vol.57Issue(5):823-832,10.
北京大学学报(自然科学版)2021,Vol.57Issue(5):823-832,10.DOI:10.13209/j.0479-8023.2021.023

基于晶圆键合工艺的光刻掩膜版排版方法

Floor Plan Arrangement Based on Wafer-To-Wafer Bond Product

尹卓 1苏悦阳 2罗代艳 2马莹 3王刚 2朱娜 3刘力锋 2吴汉明 1张兴4

作者信息

  • 1. 北京大学软件与微电子学院, 北京 102600
  • 2. 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司, 北京 100176
  • 3. 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司, 上海 201203
  • 4. 浙江大学微纳电子学院, 杭州 310058
  • 折叠

摘要

关键词

晶圆键合/光刻掩膜版排版/3D-IC

引用本文复制引用

尹卓,苏悦阳,罗代艳,马莹,王刚,朱娜,刘力锋,吴汉明,张兴..基于晶圆键合工艺的光刻掩膜版排版方法[J].北京大学学报(自然科学版),2021,57(5):823-832,10.

北京大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

0479-8023

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