|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|人工晶体学报|低温热处理温度对SiC衬底上CuAlO2薄膜特性的影响

低温热处理温度对SiC衬底上CuAlO2薄膜特性的影响

胡继超 孟佳琦 李丹 贺小敏 王曦 许蓓 蒲红斌

人工晶体学报2021，Vol.50Issue(9)：1662-1667,6.
✕
人工晶体学报2021，Vol.50Issue(9)：1662-1667,6.

低温热处理温度对SiC衬底上CuAlO2薄膜特性的影响

Influence of Low Heat Treatment Temperature on the Characteristics of CuAlO2 Thin Films Prepared on SiC Substrate

胡继超 1孟佳琦 2李丹 1贺小敏 2王曦 1许蓓 2蒲红斌1

作者信息

  • 1. 西安理工大学电子工程系,西安 710048
  • 2. 西安市电力电子器件与高效电能变换重点实验室,西安 710048
  • 折叠

摘要

关键词

SiC/溶胶凝胶法/CuAlO2薄膜/低温热处理/光学带隙

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

胡继超,孟佳琦,李丹,贺小敏,王曦,许蓓,蒲红斌..低温热处理温度对SiC衬底上CuAlO2薄膜特性的影响[J].人工晶体学报,2021,50(9):1662-1667,6.

基金项目

国家自然科学基金(61904146) （61904146）

陕西省教育厅自然科学专项项目(19JK0571) （19JK0571）

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文