人工晶体学报2021，Vol.50Issue(9)：1675-1680,6.
溅射功率和溅射时间对Mg2Si纳米晶薄膜结构和电阻率的影响
Effects of Sputtering Power and Sputtering Time on the Structure and Resistivity of Mg2Si Nanocrystalline Thin Films
摘要
关键词
Mg2Si/薄膜/射频磁控溅射/溅射功率/溅射时间/电阻率分类
数理科学引用本文复制引用
廖杨芳,谢泉..溅射功率和溅射时间对Mg2Si纳米晶薄膜结构和电阻率的影响[J].人工晶体学报,2021,50(9):1675-1680,6.基金项目
贵州省科技计划(黔科合基础[2019]1225号) （黔科合基础[2019]1225号）
贵州师范大学资助博士科研项目(GZNUD[2018]15号) （GZNUD[2018]15号）
