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基于碳化硅衬底的宽禁带半导体外延

开翠红 王蓉 杨德仁 皮孝东

人工晶体学报2021,Vol.50Issue(9):1780-1795,16.
人工晶体学报2021,Vol.50Issue(9):1780-1795,16.

基于碳化硅衬底的宽禁带半导体外延

Epitaxy of Wide Bandgap Semiconductors on Silicon Carbide Substrate

开翠红 1王蓉 2杨德仁 2皮孝东1

作者信息

  • 1. 浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验室, 杭州 310027
  • 2. 浙江大学杭州国际科创中心,杭州 311200
  • 折叠

摘要

关键词

SiC衬底/宽禁带半导体/异质外延/同质外延/晶格失配/GaN/Ga2O3/缺陷调控

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

开翠红,王蓉,杨德仁,皮孝东..基于碳化硅衬底的宽禁带半导体外延[J].人工晶体学报,2021,50(9):1780-1795,16.

基金项目

国家重点研发计划(2017YFA0205704,2018YFB2200101) (2017YFA0205704,2018YFB2200101)

国家自然科学基金重大研究计划项目(91964107) (91964107)

国家自然科学基金面上项目(61774133) (61774133)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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