表面技术2021，Vol.50Issue(10)：140-146,185,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.10.012
物理气相沉积中等离子体参数表征的研究进展
Research Progress of Plasma Parameter Characterization in Physical Vapor Deposition
曲帅杰 1郭朝乾 2代明江 2杨昭 2林松盛 1王迪 2田甜 2石倩1
作者信息
- 1. 中南大学 材料科学与工程学院,长沙 410083
- 2. 广东省科学院新材料研究所 现代材料表面工程技术国家工程实验室 广东省现代表面工程技术重点实验室,广州 510651
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摘要
关键词
物理气相沉积/薄膜/等离子体参数/电弧离子镀/磁控溅射/发射光谱法/Langmuir探针分类
矿业与冶金引用本文复制引用
曲帅杰,郭朝乾,代明江,杨昭,林松盛,王迪,田甜,石倩..物理气相沉积中等离子体参数表征的研究进展[J].表面技术,2021,50(10):140-146,185,8.
