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基于磁控磨料定向的SiC固相芬顿反应研抛盘制备及性能研究

路家斌 曾帅 阎秋生 熊强 邓家云

表面技术2021,Vol.50Issue(10):353-362,10.
表面技术2021,Vol.50Issue(10):353-362,10.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.10.037

基于磁控磨料定向的SiC固相芬顿反应研抛盘制备及性能研究

Study on the Preparation and Lapping Performance of SiC Solid-state Fenton Reaction Lapping-polishing Plates Based on Magnetically Controlled Abrasive Orientation

路家斌 1曾帅 1阎秋生 1熊强 1邓家云1

作者信息

  • 1. 广东工业大学 机电工程学院,广州 510006
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摘要

关键词

单晶SiC/磨料定向/固相芬顿反应/研抛盘/材料去除率/表面粗糙度

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

路家斌,曾帅,阎秋生,熊强,邓家云..基于磁控磨料定向的SiC固相芬顿反应研抛盘制备及性能研究[J].表面技术,2021,50(10):353-362,10.

基金项目

国家自然科学基金(52175385,52075102) (52175385,52075102)

NSFC-广东省联合基金(U1801259) (U1801259)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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