粉末冶金技术2021，Vol.39Issue(5)：445-451,7.DOI:10.19591/j.cnki.cn11-1974/tf.2021030034
靶材用钨硅合金的制备工艺
Preparation technology of tungsten silicide alloys used for sputtering target
摘要
关键词
靶材/钨硅合金/制备工艺/热力学分析分类
矿业与冶金引用本文复制引用
黄志民,王德志,吴壮志,陈金,李保强..靶材用钨硅合金的制备工艺[J].粉末冶金技术,2021,39(5):445-451,7.基金项目
国家重点研发计划资助项目(2017YFB0305603) （2017YFB0305603）
