高电压技术2021，Vol.47Issue(9)：3144-3152,9.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20200803
低气压介质阻挡放电条件下纳米SiO2表面氟化研究
Research on Surface Fluorination of Nanosilica by Dielectric Barrier Discharge Under Low Pressure
摘要
关键词
低气压/介质阻挡放电/发射光谱诊断/纳米SiO2/表面氟化引用本文复制引用
杨国清,刘阳,戚相成,王德意,王闯,曾庆文..低气压介质阻挡放电条件下纳米SiO2表面氟化研究[J].高电压技术,2021,47(9):3144-3152,9.基金项目
国家自然科学基金(51707155) （51707155）
西北旱区生态水利工程国家重点实验室基金(2016ZZKT-12). （2016ZZKT-12）
