应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1105-1118,14.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210264
193 nm化学放大光刻胶研究进展
Research Progress on Chemically Amplified 193 nm Photoresists
摘要
关键词
化学放大胶/聚合物树脂/光致产酸剂/碱性添加剂/溶解抑制剂分类
化学化工引用本文复制引用
李小欧,顾雪松,刘亚栋,季生象..193 nm化学放大光刻胶研究进展[J].应用化学,2021,38(9):1105-1118,14.基金项目
国家自然科学基金(No.51973212)、吉林省科技发展计划中青年科技创新领军人才及团队项目(No.20200301017RQ)资助 （No.51973212）
