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光敏聚酰亚胺光刻胶研究进展

郭海泉 杨正华 高连勋

应用化学2021,Vol.38Issue(9):1119-1137,19.
应用化学2021,Vol.38Issue(9):1119-1137,19.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210274

光敏聚酰亚胺光刻胶研究进展

Progress Research on Photosensitive Polyimide

郭海泉 1杨正华 1高连勋1

作者信息

  • 1. 中国科学院长春应用化学研究所,高分子复合材料工程实验室,长春 130022
  • 折叠

摘要

关键词

光敏聚酰亚胺/光刻胶/再布线/集成电路/有机发光二极管显示/微机电系统图案化

分类

化学化工

引用本文复制引用

郭海泉,杨正华,高连勋..光敏聚酰亚胺光刻胶研究进展[J].应用化学,2021,38(9):1119-1137,19.

基金项目

国家重点研发计划(No.2017YFB0404700)资助 (No.2017YFB0404700)

应用化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0518

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