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高分辨率极紫外光刻胶的研究进展

高佳兴 陈龙 玉佳婷 郭旭东 胡睿 王双青 陈金平 李嫕 杨国强

应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1138-1153,16.
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应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1138-1153,16.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210221

高分辨率极紫外光刻胶的研究进展

Research Progress on High Resolution Extreme Ultraviolet Photoresist

高佳兴 1陈龙 2玉佳婷 1郭旭东 2胡睿 1王双青 2陈金平 1李嫕 2杨国强1

作者信息

  • 1. 北京分子科学国家研究中心,中国科学院化学研究所光化学重点实验室,北京 100190
  • 2. 中国科学院大学,北京 100039
  • 折叠

摘要

关键词

极紫外光刻/极紫外光刻胶/分子玻璃光刻胶/无机金属配合物光刻胶/光刻

分类

化学化工

引用本文复制引用

高佳兴,陈龙,玉佳婷,郭旭东,胡睿,王双青,陈金平,李嫕,杨国强..高分辨率极紫外光刻胶的研究进展[J].应用化学,2021,38(9):1138-1153,16.

基金项目

国家自然科学基金(Nos.21873106,21903085,22073108,U20A20144,22090012)资助 （Nos.21873106,21903085,22073108,U20A20144,22090012）

应用化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0518

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