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面向极紫外:光刻胶的发展回顾与展望

崔昊 王倩倩 王晓琳 何向明 徐宏

应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1154-1167,14.
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应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1154-1167,14.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210189

面向极紫外:光刻胶的发展回顾与展望

Towards Extreme Ultraviolet Lithography:Progress and Challenges of Photoresists

崔昊 1王倩倩 1王晓琳 2何向明 1徐宏1

作者信息

  • 1. 清华大学核能与新能源技术研究院,北京 100084
  • 2. 无锡华睿芯材科技有限公司,无锡 214135
  • 折叠

摘要

关键词

极紫外光刻/光刻胶/金属氧化物纳米颗粒

分类

化学化工

引用本文复制引用

崔昊,王倩倩,王晓琳,何向明,徐宏..面向极紫外:光刻胶的发展回顾与展望[J].应用化学,2021,38(9):1154-1167,14.

基金项目

国家自然科学基金(No.52073161)资助 （No.52073161）

应用化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0518

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