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上海光源极紫外光刻胶检测平台

赵俊 杨树敏 薛超凡 吴衍青 陈宜方 邰仁忠

应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1168-1174,7.
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应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1168-1174,7.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210190

上海光源极紫外光刻胶检测平台

Extreme Ultraviolet Photoresist Inspection Platform in Shanghai Synchrotron Radiation Facility

赵俊 1杨树敏 2薛超凡 2吴衍青 2陈宜方 2邰仁忠1

作者信息

  • 1. 复旦大学信息科学与工程学院,上海 200433
  • 2. 中国科学院上海高等研究院,上海光源,上海 201204
  • 折叠

摘要

关键词

极紫外/光刻胶检测/干涉光刻

分类

化学化工

引用本文复制引用

赵俊,杨树敏,薛超凡,吴衍青,陈宜方,邰仁忠..上海光源极紫外光刻胶检测平台[J].应用化学,2021,38(9):1168-1174,7.

基金项目

国家重点研发计划(Nos.2017YFA0206001,2016YFA0401302,2017YFA0403400)、国家自然科学基金项目(No.11775291,11875314)资助 （Nos.2017YFA0206001,2016YFA0401302,2017YFA0403400）

应用化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0518

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