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二氧化碳基聚碳酸环己撑酯电子束光刻胶显影工艺优化

陆新宇 马彬泽 罗皓 齐欢 李强 伍广朋

应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1189-1198,10.
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应用化学2021，Vol.38Issue(9)：1189-1198,10.DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.210149

二氧化碳基聚碳酸环己撑酯电子束光刻胶显影工艺优化

Optimization of Development Process for Carbon Dioxide-Based Poly (cyclohexene carbonate) Electron Beam Resist

陆新宇 1马彬泽 2罗皓 2齐欢 1李强 2伍广朋1

作者信息

  • 1. 浙江大学高分子科学与工程学系,高分子合成与功能构造教育部重点实验室,杭州 310007
  • 2. 浙江大学光电科学与工程学院,现代光学仪器国家重点实验室,杭州 310007
  • 折叠

摘要

关键词

二氧化碳/聚碳酸酯/电子束光刻/光刻胶/显影条件/高分辨率

分类

化学化工

引用本文复制引用

陆新宇,马彬泽,罗皓,齐欢,李强,伍广朋..二氧化碳基聚碳酸环己撑酯电子束光刻胶显影工艺优化[J].应用化学,2021,38(9):1189-1198,10.

基金项目

国家自然科学基金(Nos.91956123,51973186,21674090)、国家重点研发计划(No.2017YFE0100200)和浙江省杰出青年科学基金(No.R21B040004)资助 （Nos.91956123,51973186,21674090）

应用化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0518

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