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AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的栅极电容模型

刘乃漳 姚若河 耿魁伟

物理学报2021,Vol.70Issue(21):287-293,7.
物理学报2021,Vol.70Issue(21):287-293,7.DOI:10.7498/aps.70.20210700

AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的栅极电容模型

Gate capacitance model of AlGaN/GaN high electron mobility transistor

刘乃漳 1姚若河 1耿魁伟1

作者信息

  • 1. 华南理工大学微电子学院,广州 510640
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摘要

关键词

高电子迁移率晶体管/内部边缘电容/栅极电容/模型

引用本文复制引用

刘乃漳,姚若河,耿魁伟..AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的栅极电容模型[J].物理学报,2021,70(21):287-293,7.

基金项目

国家重点研发计划(批准号:2018YFB1802100)和广东省重点领域研发计划(批准号:2019B010143003)资助的课题. (批准号:2018YFB1802100)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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