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先进光刻中的聚焦控制预算(I)-光路部分

钟志坚 李琛毅 李世光 郭磊 韦亚一

中国光学2021,Vol.14Issue(5):1104-1119,16.
中国光学2021,Vol.14Issue(5):1104-1119,16.DOI:10.37188/CO.2021-0033

先进光刻中的聚焦控制预算(I)-光路部分

Budget analysis of focus control in advanced lithography (I) -optical path

钟志坚 1李琛毅 2李世光 1郭磊 2韦亚一1

作者信息

  • 1. 中国科学院微电子研究所,北京 100029
  • 2. 中国科学院大学,北京 100049
  • 折叠

摘要

关键词

聚焦控制/光刻/预算/最佳焦点/聚焦深度/工艺窗口

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

钟志坚,李琛毅,李世光,郭磊,韦亚一..先进光刻中的聚焦控制预算(I)-光路部分[J].中国光学,2021,14(5):1104-1119,16.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No. 61804174 ()

No. 61604172) ()

中国光学

OA北大核心CSCDCSTPCD

2095-1531

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