表面技术2021，Vol.50Issue(11)：383-389,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.11.041
新型高硬度硅溶胶的制备及其在化学机械抛光中的应用
Preparation of New High-hardness Silica Sol and Its Application in Chemical Mechanical Polishing
摘要
关键词
化学机械平坦化/硅溶胶/活性硅酸/pH值稳定剂/去除速率/表面粗糙度分类
矿业与冶金引用本文复制引用
孙运乾,李薇薇,赵之琳,钱佳..新型高硬度硅溶胶的制备及其在化学机械抛光中的应用[J].表面技术,2021,50(11):383-389,7.基金项目
光电信息控制和安全技术重点实验室基金(614210701041705) （614210701041705）
