宇航材料工艺2021，Vol.51Issue(5)：145-151,7.DOI:10.12044/j.issn.1007-2330.2021.05.022
不同钝化工艺SiO2薄膜的辐射缺陷
Radiation Defects of SiO2 Films With Different Passivation Processes
盛行 1马迎凯 2杨剑群2
作者信息
- 1. 中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆 401332
- 2. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨 150000
- 折叠
摘要
关键词
钝化工艺/SiO2薄膜/缺陷/电子辐照分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
盛行,马迎凯,杨剑群..不同钝化工艺SiO2薄膜的辐射缺陷[J].宇航材料工艺,2021,51(5):145-151,7.
