云南化工2021，Vol.48Issue(10)：132-133,2.DOI:10.3969/j.issn.1004-275X.2021.10.42
基于高压压汞技术的致密储层有效孔喉半径下限及影响因素
Lower Limit of Effective Pore Throat Radius of Tight Reservoir Based on High Pressure Mercury Injection Technology and its Influencing Factors
摘要
关键词
高压压汞技术/有效喉道半径下限/喉道/致密储层分类
能源科技引用本文复制引用
宋星雷..基于高压压汞技术的致密储层有效孔喉半径下限及影响因素[J].云南化工,2021,48(10):132-133,2.
