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光生阴极保护技术的研究进展及其存在的问题

陈凡伟 刘斌 蹇冬辉 刘思琪 刘术辉 徐大伟

材料工程2021,Vol.49Issue(12):83-90,8.
材料工程2021,Vol.49Issue(12):83-90,8.DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2021.000469

光生阴极保护技术的研究进展及其存在的问题

Research progress and existing problems of photocathodic protection technology

陈凡伟 1刘斌 1蹇冬辉 1刘思琪 1刘术辉 1徐大伟1

作者信息

  • 1. 北京化工大学 材料科学与工程学院 材料电化学过程与技术北京市重点实验室,北京 100029
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摘要

关键词

光生阴极保护/光吸收范围/电子-空穴分离率/电子传导效率/暗态保护

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

陈凡伟,刘斌,蹇冬辉,刘思琪,刘术辉,徐大伟..光生阴极保护技术的研究进展及其存在的问题[J].材料工程,2021,49(12):83-90,8.

基金项目

中央高校基本科研业务费专项基金(buctrc201730) (buctrc201730)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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