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脉冲偏压频率对TiSiN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响规律

魏永强 游业豪 蒋志强

表面技术2021,Vol.50Issue(12):311-319,9.
表面技术2021,Vol.50Issue(12):311-319,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.12.030

脉冲偏压频率对TiSiN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响规律

Effects of Pulse Bias Frequency on the Microstructure and Properties of TiSiN/TiAlN Nano-Multilayer Films

魏永强 1游业豪 1蒋志强1

作者信息

  • 1. 郑州航空工业管理学院 航空工程学院,郑州 450015
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摘要

关键词

电弧离子镀/纳米多层膜/TiSiN/TiAlN/脉冲偏压频率/纳米硬度

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

魏永强,游业豪,蒋志强..脉冲偏压频率对TiSiN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响规律[J].表面技术,2021,50(12):311-319,9.

基金项目

国家自然科学基金(51401182) (51401182)

航空科学基金(2016ZE55013) (2016ZE55013)

河南省高等学校重点科研项目指导计划(22B430030) (22B430030)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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