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铜与氧化镁基底界面微观结构第一性原理模拟研究

房勇 肖盼 罗雅潇 梁云龙 杨俊

四川轻化工大学学报(自然科学版)2020,Vol.33Issue(6):1-5,5.
四川轻化工大学学报(自然科学版)2020,Vol.33Issue(6):1-5,5.DOI:10.11863/j.suse.2020.06.01

铜与氧化镁基底界面微观结构第一性原理模拟研究

A First-principles Calculation Study on the Interface Micstructure Between Cu Thin Films and MgO Substrates

房勇 1肖盼 2罗雅潇 1梁云龙 1杨俊1

作者信息

  • 1. 四川轻化工大学材料科学与工程学院,四川 自贡 643000
  • 2. 自贡源树科技服务有限公司,四川 自贡 643000
  • 折叠

摘要

关键词

金属/氧化物/晶体取向/界面微观结构/第一性原理模拟

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

房勇,肖盼,罗雅潇,梁云龙,杨俊..铜与氧化镁基底界面微观结构第一性原理模拟研究[J].四川轻化工大学学报(自然科学版),2020,33(6):1-5,5.

基金项目

材料腐蚀与防护四川省重点实验室项目(2020CL15,2020CL20) (2020CL15,2020CL20)

四川轻化工大学人才引进项目(2017RCL34) (2017RCL34)

四川轻化工大学学报(自然科学版)

2096-7543

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