宇航材料工艺2021，Vol.51Issue(6)：10-16,7.DOI:10.12044/j.issn.1007-2330.2021.06.002
磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
Research Progress of W-Ti Alloy Targets for Magnetron Sputtering
杨亚飞 1姚草根 1吕宏军 1李启军 1崔子振1
作者信息
摘要
关键词
W-Ti合金靶材/集成电路/致密度分类
矿业与冶金引用本文复制引用
杨亚飞,姚草根,吕宏军,李启军,崔子振..磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展[J].宇航材料工艺,2021,51(6):10-16,7.
