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基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展

张思琪周思翰杨卓俊许智兰长勇李春

光学精密工程2022，Vol.30Issue(1)：12-30,19.

光学精密工程2022，Vol.30Issue(1)：12-30,19.DOI:10.37188/OPE.20223001.0012

Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices

张思琪 ¹周思翰 ¹杨卓俊 ¹许智 ²兰长勇 ¹李春¹

作者信息

无掩膜光刻/空间光调制器/数字微镜器件/分辨率增强/灰度光刻/微立体光刻

信息技术与安全科学

张思琪,周思翰,杨卓俊,许智,兰长勇,李春..基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展[J].光学精密工程,2022,30(1):12-30,19.

国家自然科学基金资助项目(No.61475030,No.61975024) （No.61475030,No.61975024）

OA北大核心CSTPCD

ISSN：1004-924X

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