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离心法曲面涂胶的胶层厚度研究

解孟涛 刘俊标 王鹏飞 张利新 韩立

光学精密工程2022,Vol.30Issue(1):71-77,7.
光学精密工程2022,Vol.30Issue(1):71-77,7.DOI:10.37188/OPE.2021.0477

离心法曲面涂胶的胶层厚度研究

Research on resist-layer thickness by spin-coating on curved substrate

解孟涛 1刘俊标 2王鹏飞 1张利新 2韩立1

作者信息

  • 1. 中国科学院电工研究所,北京100190
  • 2. 中国科学院大学,北京100049
  • 折叠

摘要

关键词

电子束曝光/离心涂胶/非牛顿流体/胶层厚度/曲面

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

解孟涛,刘俊标,王鹏飞,张利新,韩立..离心法曲面涂胶的胶层厚度研究[J].光学精密工程,2022,30(1):71-77,7.

基金项目

中国科学院科研仪器设备研制项目(No.GJJSTD20200003) (No.GJJSTD20200003)

广东省重点领域研发计划资助项目(No.2020B0101320002) (No.2020B0101320002)

光学精密工程

OA北大核心

1004-924X

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