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集成电路先进制造技术进展与趋势

张睿 虞小鹏 程然 沈强 耿红艳 高大为 吴汉明

数据与计算发展前沿2021,Vol.3Issue(5):28-39,12.
数据与计算发展前沿2021,Vol.3Issue(5):28-39,12.DOI:10.11871/jfdc.issn.2096-742X.2021.05.002

集成电路先进制造技术进展与趋势

Recent Progresses on Advanced VLSI Manufacturing Techniques

张睿 1虞小鹏 2程然 1沈强 2耿红艳 1高大为 2吴汉明3

作者信息

  • 1. 浙江大学,微纳电子学院,先进集成电路制造技术研究所,浙江 杭州 311200
  • 2. 浙江大学,杭州国际科创中心,浙江 杭州 311200
  • 3. 芯创智(北京)微电子有限公司,北京 100871
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摘要

关键词

集成电路/先进制造技术/电学性能/集成度

引用本文复制引用

张睿,虞小鹏,程然,沈强,耿红艳,高大为,吴汉明..集成电路先进制造技术进展与趋势[J].数据与计算发展前沿,2021,3(5):28-39,12.

数据与计算发展前沿

OACSCD

2096-742X

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