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XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态

卢洋藩 王君

材料科学与工程学报2022,Vol.40Issue(1):46-50,5.
材料科学与工程学报2022,Vol.40Issue(1):46-50,5.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2022.01.008

XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态

Depth Analysis of the Chemical States in Si/C Multilayers Using XPS Combined with Ar Ion Sputtering

卢洋藩 1王君2

作者信息

  • 1. 浙江大学 材料科学与工程学院,浙江 杭州 310027
  • 2. 兰州大学 物理科学与技术学院,甘肃 兰州 730000
  • 折叠

摘要

关键词

X射线光电子能谱/氩离子溅射/深度剖析/锂离子电池负极

分类

机械制造

引用本文复制引用

卢洋藩,王君..XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态[J].材料科学与工程学报,2022,40(1):46-50,5.

基金项目

浙江省基础公益研究计划资助项目(LGC19E020002) (LGC19E020002)

浙江大学实验技术研究资助项目(Zdjg08002) (Zdjg08002)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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