物理学报2022,Vol.71Issue(4):195-202,8.DOI:10.7498/aps.71.20211691
脉冲γ射线诱发N型金属氧化物场效应晶体管纵向寄生效应开启机制分析
TCAD simulation analysis of vertical parasitic effect induced by pulsed γ- ray in NMOS from 180 nm to 40 nm technology nodes
摘要
关键词
瞬时电离辐射效应/寄生效应/阱电势抬升/二次光电流引用本文复制引用
李俊霖,李瑞宾,丁李利,陈伟,刘岩..脉冲γ射线诱发N型金属氧化物场效应晶体管纵向寄生效应开启机制分析[J].物理学报,2022,71(4):195-202,8.基金项目
国家自然科学基金(批准号:11835006)资助的课题. (批准号:11835006)