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薄膜厚度对射频磁控溅射β-Ga2O3薄膜光电性能的影响

李秀华 张敏 杨佳 邢爽 高悦 李亚泽 李思雨 王崇杰

物理学报2022,Vol.71Issue(4):280-291,12.
物理学报2022,Vol.71Issue(4):280-291,12.DOI:10.7498/aps.71.20211744

薄膜厚度对射频磁控溅射β-Ga2O3薄膜光电性能的影响

Effect of film thickness on photoelectric properties of β-Ga2O3 films prepared by radio frequency magnetron sputtering

李秀华 1张敏 1杨佳 1邢爽 1高悦 1李亚泽 1李思雨 1王崇杰1

作者信息

  • 1. 辽宁师范大学物理与电子技术学院,大连 116029
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摘要

关键词

b-Ga2O3薄膜/日盲紫外探测器/薄膜厚度/光电探测性能

引用本文复制引用

李秀华,张敏,杨佳,邢爽,高悦,李亚泽,李思雨,王崇杰..薄膜厚度对射频磁控溅射β-Ga2O3薄膜光电性能的影响[J].物理学报,2022,71(4):280-291,12.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:51101080)、兴辽英才计划青年拔尖人才项目(批准号:XYLC1807170)、辽宁省百千万人才工程项目和大连市科技创新基金项目(批准号:2021JJ13FG97)资助的课题. (批准号:51101080)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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