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移动阴极式掩膜电解加工微沟槽阵列均匀性研究

杜立群 温义奎 关发龙 翟科 叶作彦 王超

电化学2021，Vol.27Issue(6)：P.658-670,13.
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电化学2021，Vol.27Issue(6)：P.658-670,13.DOI:10.13208/j.electrochem.201224

移动阴极式掩膜电解加工微沟槽阵列均匀性研究

杜立群 1温义奎 2关发龙 2翟科 2叶作彦 3王超3

作者信息

  • 1. 大连理工大学,精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连116024 大连理工大学,辽宁省微纳米及系统重点实验室,辽宁大连116024
  • 2. 大连理工大学,辽宁省微纳米及系统重点实验室,辽宁大连116024
  • 3. 中国工程物理研究院,机械制造工艺研究所,四川绵阳621900
  • 折叠

摘要

关键词

移动阴极/微沟槽结构/掩膜电解加工/刻蚀均匀性

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

杜立群,温义奎,关发龙,翟科,叶作彦,王超..移动阴极式掩膜电解加工微沟槽阵列均匀性研究[J].电化学,2021,27(6):P.658-670,13.

基金项目

国家自然科学基金项目(No.51975103)资助 （No.51975103）

电化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1006-3471

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