单晶SiC基片的磁流变化学复合抛光

梁华卓付有志何俊峰徐兰英阎秋生

金刚石与磨料磨具工程2022，Vol.42Issue(1)：129-135,7.

金刚石与磨料磨具工程2022，Vol.42Issue(1)：129-135,7.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2021.0108

Magnetorheological chemical compound polishing of single crystal SiC substrate

梁华卓 ¹付有志 ¹何俊峰 ¹徐兰英 ¹阎秋生²

作者信息

磁流变化学复合抛光/芬顿反应/SiC

矿业与冶金

梁华卓,付有志,何俊峰,徐兰英,阎秋生..单晶SiC基片的磁流变化学复合抛光[J].金刚石与磨料磨具工程,2022,42(1):129-135,7.

广东省基础与应用基础研究基金(2021A1515110528,2019A15150101720). （2021A1515110528,2019A15150101720）

OA北大核心CSTPCD

ISSN：1006-852X

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