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辐照对MOSFETs栅介质阈值电压漂移的影响研究

杨燚 赵凯 赵钰迪 董俊辰

北京信息科技大学学报(自然科学版)2022,Vol.37Issue(1):40-44,5.
北京信息科技大学学报(自然科学版)2022,Vol.37Issue(1):40-44,5.DOI:10.16508/j.cnki.11-5866/n.2022.01.007

辐照对MOSFETs栅介质阈值电压漂移的影响研究

Investigation of irradiation effects on threshold voltage shifts in MOSFETs gate dielectric

杨燚 1赵凯 1赵钰迪 2董俊辰1

作者信息

  • 1. 北京信息科技大学智能芯片与网络研究院,北京100192
  • 2. 北京大学微米纳米加工技术国家级重点实验室,北京100871
  • 折叠

摘要

关键词

高k栅介质/金属-氧化物半导体场效应晶体管/阈值电压漂移/总剂量辐照效应/动力学蒙特卡洛

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨燚,赵凯,赵钰迪,董俊辰..辐照对MOSFETs栅介质阈值电压漂移的影响研究[J].北京信息科技大学学报(自然科学版),2022,37(1):40-44,5.

基金项目

北京市教委科研计划资助项目(KM202111232016) (KM202111232016)

北京信息科技大学"勤信人才"培育计划资助项目(QXTCPC202109) (QXTCPC202109)

北京信息科技大学校科研基金项目(2021XJJ20) (2021XJJ20)

北京信息科技大学学报(自然科学版)

1674-6864

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