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ZnS:Cu力致荧光薄膜在冲击压力作用下的光学响应规律及应用

张国栋 赵玉龙 孙警 韦学勇

高压物理学报2022,Vol.36Issue(2):17-25,9.
高压物理学报2022,Vol.36Issue(2):17-25,9.DOI:10.11858/gywlxb.20210899

ZnS:Cu力致荧光薄膜在冲击压力作用下的光学响应规律及应用

Optical Response and Application of Mechanoluminescent Film of ZnS:Cu under Impact Pressure

张国栋 1赵玉龙 1孙警 1韦学勇1

作者信息

  • 1. 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室, 陕西 西安 710049
  • 折叠

摘要

关键词

冲击压力/力致荧光效应/ZnS:Cu薄膜/冲击波速度

分类

数理科学

引用本文复制引用

张国栋,赵玉龙,孙警,韦学勇..ZnS:Cu力致荧光薄膜在冲击压力作用下的光学响应规律及应用[J].高压物理学报,2022,36(2):17-25,9.

基金项目

中国博士后科学基金(2020M680156) (2020M680156)

国防科技重点实验室基金(6142602190408) (6142602190408)

高压物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-5773

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