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掺锗提高VO_(2)薄膜的相变温度机理研究

崔景贺 蒋权伟 高忙忙 梁森

人工晶体学报2022,Vol.51Issue(4):P.666-672,7.
人工晶体学报2022,Vol.51Issue(4):P.666-672,7.

掺锗提高VO_(2)薄膜的相变温度机理研究

崔景贺 1蒋权伟 1高忙忙 1梁森1

作者信息

  • 1. 宁夏大学材料与新能源学院,宁夏光伏材料重点实验室,银川750021
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摘要

关键词

二氧化钒/薄膜/相变温度/二氧化锗/晶格畸变/电学性能/V-V二聚体

分类

数理科学

引用本文复制引用

崔景贺,蒋权伟,高忙忙,梁森..掺锗提高VO_(2)薄膜的相变温度机理研究[J].人工晶体学报,2022,51(4):P.666-672,7.

基金项目

宁夏自然科学基金(2020AAC03005)。 (2020AAC03005)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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