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基于65 nm体硅CMOS技术的DICE-DFF和TMR-DFF SEU辐射硬化方法分析

李海松 杨博 蒋轶虎 高利军 杨靓

电子科技大学学报2022,Vol.51Issue(3):P.458-463,6.
电子科技大学学报2022,Vol.51Issue(3):P.458-463,6.DOI:10.12178/1001-0548.2021245

基于65 nm体硅CMOS技术的DICE-DFF和TMR-DFF SEU辐射硬化方法分析

李海松 1杨博 1蒋轶虎 1高利军 1杨靓1

作者信息

  • 1. 西安微电子技术研究所,西安710065
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摘要

关键词

翻转截面/触发器/双互锁触发器/单粒子翻转/三模冗余

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李海松,杨博,蒋轶虎,高利军,杨靓..基于65 nm体硅CMOS技术的DICE-DFF和TMR-DFF SEU辐射硬化方法分析[J].电子科技大学学报,2022,51(3):P.458-463,6.

电子科技大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-0548

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