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电子束直写大深宽比Si3N4薄膜支撑的光栅X射线准直器

李艺杰 肖君 陈宜方 童徐杰 穆成阳

光学精密工程2022,Vol.30Issue(10):1181-1188,8.
光学精密工程2022,Vol.30Issue(10):1181-1188,8.DOI:10.37188/OPE.20223010.1181

电子束直写大深宽比Si3N4薄膜支撑的光栅X射线准直器

Grating X-ray collimator supported by Si3N4 membrane with large aspect ratio written directly by electron beam

李艺杰 1肖君 1陈宜方 1童徐杰 1穆成阳1

作者信息

  • 1. 复旦大学信息科学与工程学院纳米光刻与应用科研组,上海200433
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摘要

关键词

X射线准直器/Au光栅/电子束光刻/大深宽比/金电镀

分类

数理科学

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李艺杰,肖君,陈宜方,童徐杰,穆成阳..电子束直写大深宽比Si3N4薄膜支撑的光栅X射线准直器[J].光学精密工程,2022,30(10):1181-1188,8.

基金项目

上海STCSM项目(No.19142202700) (No.19142202700)

国家自然科学基金项目(No.61927820) (No.61927820)

光学精密工程

OA北大核心

1004-924X

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