世界有色金属Issue(4)：143-145,3.
近全致密超高纯钨溅射靶材
Near Fully Dense Ultra-High Purity Tungsten Sputtering Target
边逸军 1吴东青 2姚力军 2王学泽 2杨辉2
作者信息
- 1. 浙江大学材料科学与工程学院,浙江 杭州 310000
- 2. 宁波江丰电子材料股份有限公司,浙江 宁波 315400
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摘要
关键词
超高纯钨/溅射靶材/致密化/晶粒分类
矿业与冶金引用本文复制引用
边逸军,吴东青,姚力军,王学泽,杨辉..近全致密超高纯钨溅射靶材[J].世界有色金属,2022,(4):143-145,3.
