液压与气动2022，Vol.46Issue(5)：1-17,17.DOI:10.11832/j.issn.1000-4858.2022.05.001
面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述
Review of Ultra-clean Flow Control Technology in Wet Process of Semiconductor
杨津宇 1杨军 2白晓蓉 1任政钢 1刘成卫 1龚轩 1胡亮 1阮晓东1
作者信息
- 1. 浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室,浙江杭州 310027
- 2. 浙江启尔机电技术有限公司,浙江杭州 311305
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摘要
关键词
半导体/湿法制程/超洁净流控/磁悬浮泵/波纹管泵/隔膜阀/超声波流量传感器分类
机械制造引用本文复制引用
杨津宇,杨军,白晓蓉,任政钢,刘成卫,龚轩,胡亮,阮晓东..面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述[J].液压与气动,2022,46(5):1-17,17.
