人工晶体学报2022，Vol.51Issue(5)：753-758,6.
我国化学气相沉积(CVD)金刚石膜研究三十年
Thirty Years of Chemical Vapor Deposition ( CVD) Diamond Films Research in China
吕反修 1李成明1
作者信息
- 1. 北京科技大学新材料技术研究院,新金属材料国家重点实验室,北京 100083
- 折叠
引用本文复制引用
吕反修,李成明..我国化学气相沉积(CVD)金刚石膜研究三十年[J].人工晶体学报,2022,51(5):753-758,6.
